发明名称 ALIGNMENT SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND ALIGNMENT METHOD
摘要 파장에 좌우되는 각도로 더 높은 차수의 방사선을 회절시키도록 동작할 수 있는 조명 격자를 갖는, 백색광 소스와 같은 방사선 소스, 및 회절된 방사선을 적어도 2개의 반대 방향으로부터 정렬 격자 상으로 전달하기 위한 조명 광학장치를 포함하는 정렬 센서 및 관련된 방법을 개시한다. 정렬 격자 상에 입사되는 모든 성분 파장에 대해, 그리고 각각의 방향에 대해, 2개의 반대 방향 중의 하나의 방향으로부터 입사되는 방사선의 0차 회절 차수는 다른 방향으로부터 입사되는 방사선의 더 높은 회절 차수와 중첩한다. 이것은 더 높은 회절 차수를 중첩하는 0차 차수로 광학적으로 증폭시킨다.
申请公布号 KR20160004388(A) 申请公布日期 2016.01.12
申请号 KR20157034555 申请日期 2014.04.25
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 DEN BOEF ARIE JEFFREY;MATHIJSSEN SIMON;TINNEMANS PATRICIUS
分类号 G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利