| 摘要 |
고압 용기의 하부 온도를 억제하면서 HIP 처리의 핫존 내를 효율적으로 냉각하는 것이 가능한 HIP 장치(1)가 제공된다. 이 HIP 장치(1)는, 피처리물(W)을 둘러싸는 가스 불투과성의 케이싱(3, 4)과, 그 내측에 설치되어 피처리물(W)의 주위에 핫존을 형성하는 가열부(7)와, 고압 용기(2)와, 케이싱의 외측에서 냉각된 압력 매체 가스를 핫존 내로 유도하여 이 핫존을 냉각하는 냉각부를 구비한다. 냉각부는, 케이싱(3, 4)의 외측에서 냉각된 압력 매체 가스를 핫존 내에 도입하는 가스 도입부와, 케이싱의 외측에서 냉각된 압력 매체 가스를 고압 용기(2)의 바닥체(11)와 열교환시킴으로써 압력 매체 가스를 냉각하는 냉각 촉진부(37)를 포함한다. |
