曝光装置以及元件制造方法

摘要

装置EX具有投影光学系统PL。投影光学系统PL，具有最接近其像面之第1光学元件LS1、及次于第1光学元件LS1接近像面的第2光学元件LS2。第1光学元件LS1，具有：配置成与基板P表面对向之下面T1、及配置成与第2光学元件LS2对向之上面T2。将第2液体LQ2充满于第1光学元件LS1之上面T2与第2光学元件LS2之间，俾在上面T2中，仅使包含曝光用光EL通过之区域AR’的部分区域成为液浸区域，透过第1光学元件LS1之下面T1侧的第1液体LQ1、与上面T2侧之第2液体LQ2将曝光用光EL照射于基板P上，藉此使基板P曝光。如此能防止因光学元件污染使曝光精度劣化，并抑制液浸区域之巨大化。

主权项

一种曝光装置，系透过第1液体将曝光用光照射于基板上来使该基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统，具有复数个元件，该复数个元件包含最接近像面之第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；嘴构件，配置成包围该投影光学系统之前端部；该第1元件，具有配置成与该基板之表面对向且该曝光用光所通过之第1面与配置成与该第2元件对向之第2面；该第1元件之第2面之外径较该第1元件之该第1面之外径大；该第1元件之该第2面为凸面；该曝光用光透过该第1元件与该基板之间之第1液体照射于该基板上，以曝光该基板。