用于量测基板上结构的方法及装置、误差修正的模型、用于实施上述方法及装置的电脑程式产品

摘要

重建构程序，其包括：量测藉由一微影程序而形成于一基板上之结构；判定用于产生经模型化图案之一重建构模型；计算及最小化包括模型误差之一多变数成本函数。基于由机率密度函数描述的扰乱(nuisance)参数之行为之统计描述来模型化由该等扰乱参数诱发之误差。自该统计描述，演算在平均模型误差及加权矩阵方面表达之模型误差。此等模型误差用以修改该成本函数以便缩减在该重建构中的该等扰乱参数之影响，而不增加该重建构模型之复杂度。该等扰乱参数可为该经模型化结构之参数，及/或用于该重建构中之一检测装置之参数。

主权项

一种量测一基板上之一结构之参数之方法，该方法包含如下步骤：(a)定义一数学模型，在该数学模型中该结构之形状及材料属性系由包括至少一所关注参数之复数个参数表示；(b)运用一或多个辐射光束来照明该结构且侦测由该辐射与该结构之间的相互作用引起的一信号；(d)藉由在变化该所关注参数时及在不变化至少一其他参数时模拟该辐射与该数学模型之间的相互作用来演算复数个模型信号；(e)藉由在根据一所假定统计行为变化该其他参数时模拟该辐射与该数学模型之间的相互作用来演算用于该其他参数之一影响模型；(f)演算该经侦测信号与步骤(d)中所演算之该等模型信号中之至少一些之间的匹配度，同时使用该影响模型以抑制未在该等模型信号中表示的该其他参数之变化的一影响；(g)基于该等所演算匹配度来报告该所关注参数之一量测。