发明名称 载置单元及处理系统
摘要 明关于一种载置单元及处理系统,该载置单元系使保持有复数片基板之基板保持具相对于处理容器作升降,其具备有:载置用框体;升降机构,系使基板保持具升降;挡门部,系关闭处理容器的开口部;基板移载机构,系用以进行基板的移载;第1区划箱,系围绕升降机构并围绕其移动范围般所设置;第2区划箱,系连结于第1区划箱,而围绕基板移载机构与其移动范围般所设置;以及第3区划箱,系连结于第1区划箱,而围绕挡门部般所设置;其中,第1区划箱系设置有对第1区划箱的内侧喷射冷却气体之冷却气体喷射机构。
申请公布号 TWI517286 申请公布日期 2016.01.11
申请号 TW101113887 申请日期 2012.04.19
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 户羽胜也
分类号 H01L21/677(2006.01) 主分类号 H01L21/677(2006.01)
代理机构 代理人 林秋琴;何爱文
主权项 一种载置单元,系为了对基板施予热处理,而使保持有复数片该基板之基板保持具相对于下端呈开口且藉由盖体被封闭的筒体状处理容器作升降,其具备有:载置用框体,系围绕外侧整体而形成载置室;升降机构,系保持该基板保持具并使其升降;挡门部,系在该基板保持具降下时会关闭该处理容器下端的开口部;基板移载机构,系为了相对于降下后的该基板保持具进行该基板的移载而具有可升降的移载臂;第1区划箱,系围绕该升降机构并围绕被升降之该基板保持具的移动范围般所设置;第2区划箱,系连结于该第1区划箱,而围绕该基板移载机构与该基板移载机构的移动范围般所设置;以及第3区划箱,系连结于该第1区划箱,而围绕该挡门部般所设置;其中,该第1区划箱系设置有对该第1区划箱的内侧喷射冷却气体之冷却气体喷射机构;该第1区划箱系系由内筒与外筒所构成,于该内筒与该外筒之间介设有成为冷却气体喷射机构之流路的间隙。
地址 日本