| 主权项 |
一种电浆处理装置，其特征为具有：下部电极，设于处理室内，兼作为用以载置基板的载置台；上部电极，以面对该下部电极之方式设于该处理室内，具有作为从面对该下部电极之对向面所设置之复数气体吐出孔将气体朝该基板供给的喷头之功能，且可上下移动，可变更与该下部电极的间隔；盖体，设于该上部电极的上侧，将该处理室的上部开口气密地封闭，以便将该盖体与该上部电极之间的蒙气和该处理室外的蒙气隔离开来；环状构件，以沿着该上部电极的周缘部而朝下方突出之方式设置，与该上部电极连动而可上下移动，当其位于下降位置时，形成由该下部电极与该上部电极与该环状构件所围绕之处理空间；以及线圈，于该环状构件的内壁部分，以收纳于介电材料制的容器内而与该处理空间气密地隔离之状态配置，藉由施加高频电力而使电感电浆产生；其中以贯通该上部电极之方式形成有多数个排气孔，以使得接触到该上部电极之上表面的空间、与接触到该对向面的空间互相连通；且该环状构件的内径系设定成相较于该下部电极的外径较大，且在该环状构件与该上部电极连动而下降时，该环状构件包围该下部电极之周围，以使得该对向面与该下部电极的上表面之间的距离相较于该环状构件的垂直长度较小。
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