发明名称 |
自由基组成化学气相沉积之原位臭氧硬化之方法 |
摘要 |
描述用以形成介电层的方法。该些方法包含混合一含矽前驱物及一电浆流之步骤,以及于基板上沉积一含矽氮层之步骤。藉着在用来沉积该含矽氮层的同一基板处理区域内于含臭氧氛围中进行硬化,使该含矽氮层转化成含矽氧层。可于该含矽氧层上沉积另一含矽氮层,以及该些膜层堆叠可于臭氧中再次硬化,且上述动作皆无需从该基板处理区域中移除该基板。待完成整数倍的沉积-硬化循环之后,可于一含氧环境中在一较高温度下退火以进行该些含矽氧层堆叠的转化。
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申请公布号 |
TWI516630 |
申请公布日期 |
2016.01.11 |
申请号 |
TW099146656 |
申请日期 |
2010.12.29 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
王琳琳;美欧里克爱柏亥吉巴苏;英戈尔尼廷K;维卡达曼夏可 |
分类号 |
C23C16/34(2006.01);C23C16/40(2006.01);C23C16/513(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
一种于一基板处理腔室内之基板处理区域中的一基板上形成一含矽氧层之方法,该方法包括:形成一含矽氮层于该基板处理区域中的该基板上,其中形成该含矽氮层的步骤包括:使一稳定气体流入一电浆区域,以产生电浆流;于不含电浆的基板处理区域中合并一含矽前驱物与该电浆流,其中该含矽前驱物系不含碳;及沉积一含矽氮层于该基板上;以及于该基板处理区域内的一含臭氧氛围中硬化该含矽氮层,以形成该含矽氧层。
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地址 |
美国 |