发明名称 EXPOSURE APPARATUS
摘要 기계 프레임과 적어도 하나의 노광 유닛을 구비하며, 기판 베이스로서 서로 대향 배치된 기판 베이스 표면을 갖는 평판 물질을 포함하고 기판 베이스의 각각의 기판 베이스 표면에 선택적인 노광에 의해 광화학 공정이 시작될 수 있고 이로 인해 선택적인 구조들이 형성될 수 있는 광감층을 포함하는 기판용 노광 장치를, 대향 배치된 측면에 배치된 감지층을 갖는 기판의 노광이 가능한 한 효율적으로 이루어질 수 있도록 개선하기 위해, 기계 프레임에 기판 가이드가 제공되고, 상기 기판 가이드는 상기 기판의 기판 표면을 노광 가이드면에 대해 평행하게 그리고 노광 가이드면에 대해 가로방향으로 규정하여 위치 설정하고, 노광 가이드면에 대해 평행하게 연장되는 이송 방향으로 이동 가능하게 안내하고, 노광 가이드면의 양측면의 광감층의 노광을 위해 기계 프레임에 고정 배치된, 각각의 광감층의 선택적인 노광을 위한 노광 유닛들이 제공되고, 기판은 노광을 위해 노광 유닛들에 대해 이송 방향으로 이동 가능한 것이 제안된다.
申请公布号 KR20160003620(A) 申请公布日期 2016.01.11
申请号 KR20157008230 申请日期 2013.09.02
申请人 KLEO HALBLEITERTECHNIK GMBH 发明人 OPOWER HANS;JUNGER KLAUS
分类号 G03F7/20;G03F7/30 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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