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ArF 엑시머 레이저광이 적용되는 포토마스크를 제작하기 위해 이용되는 포토마스크 블랭크로서, 투광성 기판 상에 차광막을 갖고, 상기 차광막은, 투광성 기판에 가까운 측으로부터 이면 반사 방지층, 차광층 및 표면 반사 방지층이 순서대로 적층된 적층 구조를 갖고, 차광막 전체의 막 두께가 60㎚ 이하이며, 이면 반사 방지층은, 금속을 함유하는 막으로 이루어지고, 제1 에칭 속도를 갖고, 표면 반사 방지층은, 금속을 함유하는 막으로 이루어지고, 제3 에칭 속도를 갖고, 차광층은, 이면 반사 방지층 또는 표면 반사 방지층에 포함되는 금속과 동일한 금속을 함유하는 막으로 이루어지고, 제1 에칭 속도 및 제3 에칭 속도보다도 느린 제2 에칭 속도를 갖고, 차광층의 막 두께는, 차광막 전체의 막 두께의 30％ 이하인 것을 특징으로 하는 포토마스크 블랭크. |
