基板处理用之药液生成方法，基板处理用之药液生成单元及基板处理系统

摘要

明之基板处理系统包含：药液生成单元，其生成供给至基板之药液；及处理单元，其将藉由药液生成单元所生成之药液供给至基板。药液生成单元藉由向包含TMAH(氢氧化四甲基铵)之含TMAH药液供给包含氧气之含氧气体，而使含氧气体溶解于含TMAH药液中。

主权项

一种基板处理用之药液生成方法，其包括：测定步骤，系一边使在蓄积包含TMAH(氢氧化四甲基铵)之含TMAH药液之蓄积部内之上述含TMAH药液在循环路径中循环，一边测定上述含TMAH药液中之溶存氧浓度；氮溶解步骤，系于利用上述测定步骤所测定之溶存氧浓度较既定之浓度更高之情形时，藉由将包含氮气之含氮气体供给至上述蓄积部，而使上述含氮气体溶解于上述含TMAH药液中；及氧溶解步骤，系于利用上述测定步骤所测定之溶存氧浓度较上述既定之浓度更低之情形时，藉由将包含氧气之含氧气体供给至上述蓄积部，而使上述含氧气体溶解于上述含TMAH药液中。