| 发明名称 |
半导体制程方法及半导体制程设备 |
| 摘要 |
明系关于一种半导体制程方法，该方法包括：提供一半导体基板；探测前述半导体基板上之一表面区域，以判断前述表面区域是否具有多余的电荷；以及，根据是否存在多余的电荷，选择性地感应一电晕放电以减少前述多余的电荷。本发明亦提供其他技术。
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| 申请公布号 |
TWI517206 |
申请公布日期 |
2016.01.11 |
| 申请号 |
TW102146357 |
申请日期 |
2013.12.16 |
| 申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
吴林荣;许志修;杨棋铭 |
| 分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪澄文;颜锦顺 |
| 主权项 |
一种半导体制程方法，包括：提供一半导体晶圆；探测该半导体晶圆上之一表面区域，并判断该表面区域是否存在一电荷条件；以及根据该电荷条件是否存在，选择性地感应一电晕放电以改变该电荷条件。
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| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
