| 摘要 |
본 발명은, 박리성이 뛰어나고, 또한, 기판에 대한 데미지가 적은 패턴 박리 방법, 상기 패턴 박리 방법을 포함하는 전자 디바이스의 제조 방법, 및 상기 제조 방법으로 제조된 전자 디바이스를 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명은, 기판 상에, 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 도포하여, 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 공정과, 상기 레지스트막을 노광하는 노광 공정과, 상기 노광된 레지스트막을, 유기 용제를 함유하는 현상액을 이용하여 현상하여, 네거티브형 패턴을 형성하는 현상 공정과, 상기 네거티브형 패턴을, 하기 A 또는 B의 액을 이용하여 박리하는 박리 공정을 포함한다. A: 설폭사이드 화합물 및/또는 아마이드 화합물을 함유하는 액 B: 황산과 과산화수소를 함유하는 액 |
