| 摘要 |
패드 컨디셔너는 예를 들어 화학 기계적 폴리싱(CMP) 프로세스에서 사용되는 폴리싱 패드를 컨디셔닝하도록 구성된 복수의 독립적으로 장착된 컨디셔닝 요소를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 패드 컨디셔너는 메인 어셈블리 디스크, 및 짐벌 접속을 통해 메인 어셈블리 디스크에 부착된 메인 어셈블리 베이스 플레이트를 포함할 수 있다. 복수의 패드 컨디셔너 어셈블리는 메인 어셈블리 베이스 플레이트에 부착될 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 패드 컨디셔너 어셈블리는 메인 어셈블리 베이스 플레이트에 부착된 패드 컨디셔너 디스크, 짐벌 접속을 통해 패드 컨디셔너 디스크에 부착된 패드 컨디셔너 베이스, 및 패드 컨디셔너 베이스에 부착된 컨디셔닝 요소를 포함할 수 있다. 폴리싱 패드를 컨디셔닝하는 방법들도 다른 양태들과 마찬가지로 제공된다. |
