| 摘要 |
제1 표면 상에서 2차원 결정층을 형성하기 위하여 촉매층(14)을 지지하는 캐리어(10)를 제공하는 단계; 상기 촉매층 상에 상기 2차원 결정막을 형성하는 단계; 보호층(18)으로 적어도 상기 상기 2차원 결정막을 덮는 단계; 상기 캐리어의 제2 표면에 캐비티(24)를 에칭하는 단계로서, 상기 제2 표면이 상기 제1 표면의 반대편에 있으며 상기 캐비티가 상기 촉매층에서 종료하는, 상기 단계; 상기 캐비티로부터 상기 촉매층의 노출된 부분을 에칭하는 단계; 및 상기 보호층을 제거하여, 상기 캐비티 상에서 자립하는 2차원 결정막을 얻는 단계를 포함하는, 부분적으로 자립하는 2차원 결정막(16, 16')을 제조하는 방법이 개시된다. 이러한 방식으로 제조되는 디바이스가 또한 개시된다. |
