| 摘要 |
<p>본 발명의 다중 소스 타겟 어셈블리를 갖는 물리적 기상 증착 플라즈마 반응기는 반응기 몸체; 다중 분할된 복수개의 소스 타겟 유닛이 설치되어 상기 반응기 몸체의 내부에 설치된 다중 소스 타겟 어셈블리; 및 상기 다중 소스 타겟 어셈블리로 서로 다른 주파수의 전원을 공급하기 위한 메인 전원 공급원을 포함한다. 본 발명의 플라즈마 반응기는 복수개의 소스 타겟 유닛에 의해 대면적화가 용이하고 균일한 물리적 기상 증착이 가능하게 된다. 또한 자석을 이용해 이온화 효율을 높여 스퍼터링 효율을 높일 수 있다.</p> |
