APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

摘要

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 있어서, 내부에 처리 공간을 가지는 용기와 상기 용기 내부에 위치하며 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과 상기 기판 지지 유닛에 놓여지는 기판으로 처리액을 분사하는 분사 부재를 포함하되 상기 용기의 내측 면에는 결이 형성되는 기판 처리 장치를 포함한다.