| 摘要 |
<p>本発明のＸ線発生装置（１）は、電子ビーム（ＥＢ）を出射する電子銃部（３）と、ダイヤモンドからなる基板（２１）と、電子ビーム（ＥＢ）の入射によりＸ線（ＸＲ）を発生する材料からなり且つ基板（２１）に密着して埋設されたターゲット体（２３）と、を有するターゲット部（Ｔ）と、を備える。ターゲット体（２３）の外径は、０．０５〜１μｍの範囲である。電子ビーム（ＥＢ）のターゲット部（Ｔ）での照射野の外径はターゲット体（２３）の外径の１．１〜２．５倍の範囲である。Ｘ線発生装置（１）は、ターゲット体（２３）が照射野に内包されるように電子ビーム（ＥＢ）をターゲット体（２３）に照射することにより、ターゲット体（２３）からＸ線（ＸＲ）を発生させる。これにより、電子ビームがターゲット部におけるターゲット体以外の部分に入射することにより発生するＸ線成分が、空間分解能に影響が生じない程度に抑制されるので、空間分解能の低下を抑制したＸ線発生装置を提供することができる。</p> |
