发明名称 LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD
摘要 <p>본 발명은, 노즐을 지지하는 노즐 지지 아암에 부착된 오염에 의해 처리실 내의 기판이 오염되어 버리는 것을 방지할 수 있는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공한다. 본 발명의 액처리 장치(10)는, 기판(W)을 유지하는 기판 유지부(21) 및 그 기판 유지부(21)의 주위에 배치되는 컵(40)이 내부에 설치된 처리실(20)과, 기판 유지부(21)에 유지된 기판(W)에 대하여 유체를 공급하기 위한 노즐(82a)과, 노즐(82a)을 지지하는 노즐 지지 아암(82)을 구비하고 있다. 노즐 지지 아암(82)에는, 노즐 지지 아암(82)의 선단면(82e)을 향해 가스를 분출하는 가스 분출 기구(75)가 마련되어 있다.</p>
申请公布号 KR101583111(B1) 申请公布日期 2016.01.07
申请号 KR20120063638 申请日期 2012.06.14
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 히가시지마 지로
分类号 H01L21/302;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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