| 摘要 |
<p>본 발명은 EUV 노광 장치의 진공 챔버 내를 대기에 노출하는 일 없이, 상기 챔버 내의 레티클 척의 클리닝을 간이하게 행할 수 있고, EUV 노광 장치의 가동률 향상에 기여할 수 있는 레티클 척 클리너로서, EUV 노광 장치의 레티클 척을 클리닝하기 위한 레티클 척 클리너(A)이며, 레티클 척의 척 영역에 부착되는 점착제층(1)과, 점착제층(1)에 적층된 지지층(2)과, 레티클 척까지 반송 가능한 형상을 갖는 기판(3)을 구비하고, 지지층(2)과 기판(3)이 부분 점착층(4)의 접착 영역(41)에 있어서 부분적으로 접착되어 있는 레티클 척 클리너(A)를 제공한다.</p> |
