发明名称 Optoelektronische Vorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
摘要 Eine optoelektronische Vorrichtung, die umfasst: eine erste Halbleiterschicht mit vier Grenzen, einer Ecke, die durch zwei der benachbarten Grenzen gebildet ist, einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche entgegengesetzt zur ersten Oberfläche; eine zweite Halbleiterschicht, die auf der ersten Oberfläche der ersten Halbleiterschicht ausgebildet ist; eine Elektrode vom zweiten leitfähigen Typ, die auf der zweiten Halbleiterschicht ausgebildet ist; und zwei Elektroden vom ersten leitfähigen Typ, die auf der ersten Oberfläche ausgebildet sind, wobei die Elektroden vom ersten leitfähigen Typ getrennt sind und ein Muster bilden.
申请公布号 DE102015110770(A1) 申请公布日期 2016.01.07
申请号 DE201510110770 申请日期 2015.07.03
申请人 EPISTAR CORPORATION 发明人 CHEN, CHAO-HSING;WANG, JIA-KUEN;LIAO, CHIEN-CHIH;TSENG, TZU-YAO;KO, TSUN-KAI;SHEN, CHIEN-FU
分类号 H01L33/38;H01L33/20 主分类号 H01L33/38
代理机构 代理人
主权项
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