铜钼合金膜的蚀刻液组合物

摘要

本发明涉及一种铜钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的蚀刻液组合物，相对于整体组合物的总重量，包含：5%至40%重量百分比的过氧化氢，0.01%至5%重量百分比的同时含有氮原子和硫原子的化合物，0.1%至5%重量百分比的有机酸，0.1%至5%重量百分比的杂环化合物，0.1%至5%中重量百分比的螯合剂，0.01至1重量百分比%的氟化物及使整体组合物的总重量达到100%的水。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程、蚀刻液内的金属离子的含量较高时，也可以维持蚀刻锥角、蚀刻精度及蚀刻直线度等蚀刻特性，可有效地应用在TFT-LCD显示器电极制造上。

主权项

一种铜钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于整体组合物的总重量，包含：5％至40％重量的过氧化氢，0.01％至5％重量的同时含有氮原子和硫原子的化合物，0.1％至5％重量百分比的有机酸，0.1％至5％重量百分比的杂环化合物，0.1％至5％中重量百分比的螯合剂，0.01％至1％重量百分比的氟化物及使整体组合物的总重量达到100％的水；所述同时含有氮原子和硫原子的化合物选自硫醇基咪唑啉、2‑硫醇基‑1‑甲基咪唑啉、2‑巯基噻唑、2‑氨基噻唑、巯基三唑、氨基巯基三唑、巯基四氮唑、甲基巯基四氮唑、噻唑、苯基噻唑、2‑甲基苯并噻唑、2‑氨基苯并噻唑及2‑巯基苯并噻唑中的至少一种。