发明名称 |
一种光学邻近效应修正模型的优化方法 |
摘要 |
本发明提出的一种光学邻近效应修正模型的优化方法,选出焦距敏感图形,对焦距敏感图形使用严谨的光阻仿真器进行模拟获得其光阻高度数据,量测出临界尺寸优化光学邻近效应修正光学模型和光学邻近效应修正光阻模型,使得整个模型对由于三维效应而失效的图形有很好的预测能力,同时相对于严谨的光阻仿真器模型具有更快的速度,能满足32nm节点及更高节点整个版图设计的光学邻近效应修正和验证的需求。 |
申请公布号 |
CN105223771A |
申请公布日期 |
2016.01.06 |
申请号 |
CN201510662390.3 |
申请日期 |
2015.10.14 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
江志兴;王伟斌;魏芳;吕煜坤;朱骏;张旭升 |
分类号 |
G03F1/36(2012.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
俞涤炯 |
主权项 |
一种光学邻近效应修正模型的优化方法,其特征在于,包括:S1:从初始的光学邻近效应修正模型和模型测试图形中选出焦距敏感图形;S2:对所述焦距敏感图形使用严谨的光阻仿真器进行模拟,获得所述焦距敏感图形光阻高度数据;S3:使用所述高度数据和扫描电子显微镜量测临界尺寸优化光学邻近效应修正光学模型和光学邻近效应修正光阻模型。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |