发明名称 阳离子交换膜和使用了该阳离子交换膜的电解槽
摘要 本发明的课题在于提供一种针对弯折等的机械强度优异的离子交换膜和使用了该阳离子交换膜的电解槽。所述阳离子交换膜为具有膜主体的阳离子交换膜(10),所述膜主体包含具有离子交换基的含氟类聚合物,所述膜主体至少含有第一层(11)和第二层(12),第一层(11)包含具有羧酸基的含氟聚合物,第二层(12)包含具有磺酸基的含氟聚合物,从阳离子交换膜的中立轴(N)至所述第二层(12)的膜表面、即与所述第一层形成面侧相反侧的表面的距离(X)为5μm~70μm。
申请公布号 CN103243344B 申请公布日期 2016.01.06
申请号 CN201210311018.4 申请日期 2012.08.28
申请人 旭化成化学株式会社 发明人 角佳典;冈本浩司
分类号 C25B13/00(2006.01)I;C25B9/06(2006.01)I;C25B9/08(2006.01)I 主分类号 C25B13/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 丁香兰;庞东成
主权项 一种阳离子交换膜,其为具有膜主体的阳离子交换膜,所述膜主体包含具有离子交换基的含氟类聚合物,其中,所述膜主体至少含有第一层和第二层,所述第一层包含具有羧酸基的含氟聚合物,所述第二层包含具有磺酸基的含氟聚合物,从阳离子交换膜的中立轴至所述第二层的膜表面、即与所述第一层形成面侧相反侧的表面的距离为5μm~70μm,该阳离子交换膜以所述第一层、第二层的A层、第二层的B层的顺序层积,在将所述第一层的厚度设为D<sub>1</sub>、将所述第二层的A层的厚度设为D<sub>2A</sub>、将所述第二层的B层的厚度设为D<sub>2B</sub>时,D<sub>1</sub>为10μm~30μm,D<sub>2A</sub>为70μm~130μm,D<sub>2B</sub>为15μm~55μm。
地址 日本东京都