发明名称 |
一种带有P型柱体的超快速高压SOI LIGBT器件 |
摘要 |
本发明涉及一种半导体器件,公开了一种带有P型柱体的阳极N+/P+交叠短路的超快速高压SOI LIGBT器件,包括衬底、阳极P+区、阳极N+区、阳极金属、N型漂移区、场氧化层、阴极P+区、阴极P型体区、P型沟道区、发射极N+区、阴极金属、多晶硅栅、LIGBT器件栅氧化层、多晶硅栅金属和第一P型柱体区、第二P型柱体区。本发明的超快速高压SOI LIGBT的有益效果是、关断速度的加快、负阻现象NDR(Negative Differential Resistance)的消除、正向导通压降的减小以及关断时器件耐压的提升。 |
申请公布号 |
CN105226088A |
申请公布日期 |
2016.01.06 |
申请号 |
CN201510563513.8 |
申请日期 |
2015.09.08 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
谢刚;王柳敏;王珩宇;盛况 |
分类号 |
H01L29/739(2006.01)I;H01L29/417(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/739(2006.01)I |
代理机构 |
浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 |
代理人 |
杨斌 |
主权项 |
一种带有P型柱体的超快速高压SOI LIGBT器件,其特征在于所述器件包括衬底(1)、阳极P+区(5)、阳极N+区(4)、阳极金属(12)、N型漂移区(3)、场氧化层(16)、阴极P+区(8)、阴极P型体区(7)、P型沟道区(6)、发射极N+区(9)、阴极金属(11)、多晶硅栅(14)、LIGBT器件栅氧化层(10)、多晶硅栅金属(13)和第一P型柱体区(17)、第二P型柱体区(18),阳极金属(12)与阳极P+区(5)和阳极N+区(4)连接,阳极P+区(5)与阳极N+区(4)交叠短路排列。 |
地址 |
310013 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |