发明名称 薄膜形成方法及びCVD装置
摘要
申请公布号 JP5839980(B2) 申请公布日期 2016.01.06
申请号 JP20110279537 申请日期 2011.12.21
申请人 古河電気工業株式会社 发明人 中崎 竜介;池田 正清;安永 紳也;菊地 浩司;櫻井 紀快;劉 勁
分类号 C23C16/448 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
地址