用于印刷周期性图案的方法和系统

摘要

一种用于将特征的周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括提供承载周期性图案的掩模，提供承载光敏层的衬底，大体平行于掩模布置衬底，形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面，以及利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（m_i+n_i/N）倍给出，以及将掩模图案曝光于用于每一个子曝光的光照的相同能量密度，其中与波长有关地选择周期使得仅第零和第一衍射级被掩模透射。

主权项

一种用于将所期望的特征的一维或二维周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括：a）提供承载特征的周期性掩模图案的掩模；b）提供承载光敏层的衬底；c）大体平行于掩模并且以与掩模的分离布置衬底；d）形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面；以及f）利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的相对分离的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（m_i+n_i/N）倍给出，其中值m_i是整数并且n_i针对不同的子曝光取从0到N‑1的整数值中的每一个；其中与光照波长有关地选择周期使得大体仅第零和第一衍射级被掩模透射。