| 摘要 |
<p>기판처리장치의 일 실시예는, 반응공간을 제공하고, 제 1 측면과 상기 제 1 측면과 대향하는 제 2 측면을 가지는 챔버; RF 전원; 상기 반응공간에 위치하는 판형(板形)의 상부전극; 상기 상부전극에 연결되는 가스공급관; 상기 상부전극과 대향하고 기판이 안치되는 기판 안치대; 상기 RF 전원과 연결되는 제 1 파워 피딩 라인; 및 상기 RF 전원과 연결되는 제 2 파워 피딩 라인; 을 포함하고, 상기 기판의 중앙에 위치한 상기 가스공급관에 상기 제 1 파워 피딩 라인이 연결되고, 상기 제 1 측면의 방향으로 이격되어 상기 상부전극에 상기 제 2 파워 피딩 라인이 연결되는 것일 수 있다.</p> |
