发明名称 2 TWO-FLUID NOZZLE AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD
摘要 <p>소경의 처리액의 액적을 균일하게 분무할 수 있는 2 유체 노즐 및 이 2 유체 노즐을 이용한 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법을 제공하는 것이다. 본 발명에서는, 액체 토출부(48)로부터 토출된 처리액과 기체 토출구(52)로부터 토출된 기체를 혼합하여 생성한 처리액의 액적을 피처리체를 향해 분무하는 2 유체 노즐(34) 및 이 2 유체 노즐(34)을 이용한 기판 액처리 장치(1) 및 기판 액처리 방법에서, 액체 토출부(48)는, 기체 토출구(52)의 내측에 원의 외측 방향을 향해 처리액을 토출하는 복수의 액체 토출구(47)를 동일 원 상에 배치하는 것으로 했다.</p>
申请公布号 KR101582248(B1) 申请公布日期 2016.01.04
申请号 KR20120066917 申请日期 2012.06.21
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 가이 요시히로;가네코 사토시
分类号 H01L21/02;H01L21/302 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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