| 发明名称 |
感放射线性或感光化射线性树脂组成物以及使用其的抗蚀剂膜、空白罩幕、抗蚀剂图案的形成方法、电子元件的制造方法及电子元件 |
| 摘要 |
明的感放射线性或感光化射线性树脂组成物含有高分子化合物(A)，所述高分子化合物(A)含有藉由光化射线或放射线的照射发生分解而于侧链上产生酸根阴离子的结构部位(a)、及下述通式(I)所表示的重复单元(b)。
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| 申请公布号 |
TW201600932 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW104117699 |
申请日期 |
2015.06.02 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
土村智孝 |
| 分类号 |
G03F7/038(2006.01);C07C381/12(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗;郑婷文;詹富闵 |
| 主权项 |
一种感放射线性或感光化射线性树脂组成物，含有高分子化合物(A)，所述高分子化合物(A)含有藉由光化射线或放射线的照射发生分解而于侧链上产生酸根阴离子的结构部位(a)、及下述通式(I)所表示的重复单元(b)，
式中，R3表示氢原子、有机基或卤素原子；A1表示芳香环基或脂环基；R1及R2分别独立地表示烷基、环烷基或芳基；A1、R1及R2中的至少两个亦可相互键结而形成环；B1及L1分别独立地表示单键或二价连结基；X表示氢原子或有机基；n表示1以上的整数；
于n表示2以上的整数的情形时，多个L1、多个R1、多个R2及多个X分别可相同亦可不同。
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| 地址 |
日本 |
