| 发明名称 |
蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法 |
| 摘要 |
揭示一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、螯合剂和剩余量的水，其中该螯合剂包含特定的重复单元，并且相对于1g的蚀刻液组合物，螯合剂中包含的重复单元的量为0.6mmol至2mmol；以及一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。
|
| 申请公布号 |
TW201600644 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW104119232 |
申请日期 |
2015.06.15 |
| 申请人 |
东友精细化工有限公司 |
发明人 |
崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培;金相泰 |
| 分类号 |
C23F1/18(2006.01);C23F1/26(2006.01);G02F1/133(2006.01);H01L29/786(2006.01) |
主分类号 |
C23F1/18(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
赖正健;陈家辉 |
| 主权项 |
一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、螯合剂和剩余量的水；其中前述螯合剂包含下面化学式1的化合物，并且相对于1g的前述蚀刻液组合物，前述螯合剂中包含的化学式1的量为0.6mmol至2mmol；
其中l、m和n各自独立地为0至2的整数；l、m和n不都为0；X、Y和Z各自独立地为O、N或S；并且A和B各自独立地为CH2或C=O。
|
| 地址 |
南韩 |
