| 发明名称 |
硏磨垫 |
| 摘要 |
明以提供一种研磨垫为目的，该研磨垫具有具3相分离结构的研磨层，且研磨速度大、平坦化特性优异，并可抑制刮痕的产生。
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| 申请公布号 |
TWI515240 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW103102684 |
申请日期 |
2014.01.24 |
| 申请人 |
东洋橡胶工业股份有限公司 |
发明人 |
清水绅司 |
| 分类号 |
C08J5/14(2006.01);C08G18/10(2006.01);C08G18/48(2006.01);B24D3/28(2006.01);B24D3/34(2006.01);B24B37/00(2012.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C08J5/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
| 主权项 |
一种研磨垫，其具有研磨层，该研磨垫之特征在于前述研磨层由含有下述成分之聚胺甲酸酯原料组成物的反应硬化体形成：异氰酸酯末端预聚物(A)，系将含有异氰酸酯成分及聚酯系多元醇之预聚物原料组成物(a)反应而获得者；异氰酸酯末端预聚物(B)，系将含有异氰酸酯成分及聚醚系多元醇之预聚物原料组成物(b)反应而获得者；及链延长剂；且前述聚醚系多元醇含有数量平均分子量1000以下的聚醚系多元醇(C)及数量平均分子量1900以上的聚醚系多元醇(D)，前述反应硬化体具有3相分离结构。
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| 地址 |
日本 |
