| 发明名称 |
近红外线吸收性组成物、近红外线截止滤波器、近红外线截止滤波器的制造方法、固体摄像元件、照相机模组 |
| 摘要 |
明提供一种可形成维持高近红外线遮蔽性且耐热性优异的硬化膜的近红外线吸收性组成物、使用其的近红外线截止滤波器、近红外线截止滤波器的制造方法、固体摄像元件及照相机模组。该近红外线吸收性组成物包含具有由M-X所表示的部分结构的化合物以及近红外线吸收性化合物，且具有由M-X所表示的部分结构的化合物的含量为近红外线吸收性组成物的总固体成分的15质量%以上。其中，M为选自Si、Ti、Zr及Al中的原子，X为选自羟基、烷氧基、醯基氧基、磷醯基氧基、磺醯基氧基、胺基、肟基及O=C(Ra
)(Rb
)中的一种，Ra
及Rb
分别独立地表示一价的有机基，于X为O=C(Ra
)(Rb
)的情况下，藉由羰基的氧原子的非共用电子对而与M键结。 |
| 申请公布号 |
TW201600574 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW104120439 |
申请日期 |
2015.06.25 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
川岛敬史;有村启佑 |
| 分类号 |
C09D5/32(2006.01);G02B5/22(2006.01);H01L27/144(2006.01) |
主分类号 |
C09D5/32(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
叶璟宗;郑婷文;詹富闵 |
| 主权项 |
一种近红外线吸收性组成物，包含具有由M-X所表示的部分结构的化合物以及近红外线吸收性化合物， 所述具有由M-X所表示的部分结构的化合物的含量为所述近红外线吸收性组成物的总固体成分的15质量%以上； 其中，M为选自Si、Ti、Zr及Al中的原子，X为选自羟基、烷氧基、醯基氧基、磷醯基氧基、磺醯基氧基、胺基、肟基及O=C(Ra
)(Rb
)中的一种，Ra
及Rb
分别独立地表示一价的有机基，于X为O=C(Ra
)(Rb
)的情况下，藉由羰基的氧原子的非共用电子对而与M键结。 |
| 地址 |
日本 |
