发明名称 |
回收基板和载体基板的方法 |
摘要 |
明于各种实施例中提供一种回收载体基板的方法。该方法可以包含提供该载体基板。该方法可以进一步包含藉由沉积一合宜材料于该载体基板上而形成一缓冲层,从而形成一包括该载体基板与该缓冲层的合成基板。该方法还可以包含形成一或更多个器件层于该缓冲层上方。该方法可以额外包含于一分离制程中将该一或更多个器件层与该载体基板分离,俾使得当该一或更多个器件层与该载体基板分离时该缓冲层的至少一部分仍会残留在该载体基板上。该方法可以进一步包含在该分离制程之后藉由沉积该合宜材料而以该缓冲层的该部分形成另一缓冲层,以便回收该载体基板。
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申请公布号 |
TW201601192 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW104107540 |
申请日期 |
2015.03.10 |
申请人 |
南洋理工大学 |
发明人 |
德米尔 希勒米 沃尔坎;陈 瑞添 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/64(2006.01);H01L21/77(2006.01);H01L33/00(2010.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
主权项 |
一种回收载体基板的方法,该方法包括:提供该载体基板;藉由沉积一合宜材料于该载体基板上而形成一缓冲层,从而形成包括该载体基板与该缓冲层的一合成基板;形成一或更多个器件层于该缓冲层上方;于一分离制程中将该一或更多个器件层与该载体基板分离,俾使得当该一或更多个器件层与该载体基板分离时该缓冲层的至少一部分仍会残留在该载体基板上;以及在该分离制程之后藉由沉积该合宜材料而以该缓冲层的该部分形成另一缓冲层,以便回收该载体基板。
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地址 |
新加坡 |