| 发明名称 |
蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法 |
| 摘要 |
明揭示一种蚀刻液组合物，该蚀刻液组合物包括金属层氧化剂、螯合剂和剩余量的水，其中前述螯合剂的官能基的莫耳量相比于前述金属层氧化剂的莫耳量是0.1至10；以及一种使用该组合物制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。
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| 申请公布号 |
TW201600642 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW104119235 |
申请日期 |
2015.06.15 |
| 申请人 |
东友精细化工有限公司 |
发明人 |
崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培;金相泰;李俊雨 |
| 分类号 |
C23F1/16(2006.01);G02F1/1333(2006.01);G02F1/1343(2006.01) |
主分类号 |
C23F1/16(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖正健;陈家辉 |
| 主权项 |
一种蚀刻液组合物，系包括：金属层氧化剂、螯合剂和剩余量的水；其中前述螯合剂的官能基的莫耳量相比于前述金属层氧化剂的莫耳量是0.1至10；前述螯合剂的官能基是在β位两侧都具有杂原子的单元；并且前述金属层氧化剂的莫耳量和前述螯合剂的官能基的莫耳量从下面的等式1和等式2获得：
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| 地址 |
南韩 |
