| 摘要 |
关于用于溅射系统之磁铁配置(800,900,1000)，其中磁铁配置适于溅射系统之旋转靶材(126a,126b)并包含：第一磁铁元件(810,910,1010)，该第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸；第二磁铁元件(820,920,1020)，该第二磁铁元件系环绕第一磁铁元件对称第一平面(A)而设置；其中第二磁铁元件包含至少一个磁区(826,827,926,927,1028)，该至少一个磁区与第一平面相交；且其中至少一个磁区之磁轴(822,922,1022)系相对第二平面(B)而倾斜，该第二平面与第一轴(X)正交。此外，本文关于用于溅射系统之旋转靶材的靶材背管、用于溅射系统之圆柱状旋转靶材及溅射系统。 |
| 主权项 |
一种用于一溅射系统之磁铁配置(800,900,1000)，该溅射系统具有一旋转靶材(126a,126b)，该磁铁配置包括：一第一磁铁元件(810,910,1010)，该第一磁铁元件沿一第一轴(X)延伸，其中该第一磁铁元件在该第一轴的方向上具有第一端和相对该第一端之一第二端；二个第二磁铁元件(820,920,1020)，每个第二磁铁元件平行于该第一轴而延伸且被对称配置于该第一轴的相对侧，其中每个第二磁铁元件具有一第一端和一第二端；其中每个第二磁铁元件的该第一端被配置于该第一磁铁元件之该第一端之一侧；其中每个第二磁铁元件的该第二端被配置于该第一磁铁元件之该第二端之一侧；一第三磁铁元件，该第三磁铁元件连接该二个第二磁铁元件的该第一端；以及一第四磁铁元件，该第四磁铁元件连接该二个第二磁铁元件的该第二端，使该第二磁铁元件、该第三磁铁元件与该第四磁铁元件围绕该第一磁铁元件；；其中该第三磁铁元件之一磁轴(822,922,1022)系相对
一第一平面(B)而倾斜，该第一平面与该第一轴(X)正交。
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