发明名称 成膜方法
摘要 于基板上成膜出TiN连续膜的成膜方法,系具有:于该基板上成膜出TiO2连续膜的工序;以及于该TiO2连续膜上成膜出较该TiO2膜要厚之TiN连续膜的工序。
申请公布号 TW201600626 申请公布日期 2016.01.01
申请号 TW104114659 申请日期 2015.05.08
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 熊谷武司;尾谷宗之
分类号 C23C16/34(2006.01);C23C16/40(2006.01) 主分类号 C23C16/34(2006.01)
代理机构 代理人 林秋琴;陈彦希;何爱文
主权项 一种成膜方法,系于基板上成膜出TiN连续膜的成膜方法,其系具有:于该基板上成膜出TiO2连续膜的工序;以及于该TiO2连续膜上成膜出较该TiO2膜要厚之TiN连续膜的工序。
地址 日本