发明名称 | 成膜方法 | ||
摘要 | 于基板上成膜出TiN连续膜的成膜方法,系具有:于该基板上成膜出TiO2连续膜的工序;以及于该TiO2连续膜上成膜出较该TiO2膜要厚之TiN连续膜的工序。 | ||
申请公布号 | TW201600626 | 申请公布日期 | 2016.01.01 |
申请号 | TW104114659 | 申请日期 | 2015.05.08 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 熊谷武司;尾谷宗之 |
分类号 | C23C16/34(2006.01);C23C16/40(2006.01) | 主分类号 | C23C16/34(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林秋琴;陈彦希;何爱文 | |
主权项 | 一种成膜方法,系于基板上成膜出TiN连续膜的成膜方法,其系具有:于该基板上成膜出TiO2连续膜的工序;以及于该TiO2连续膜上成膜出较该TiO2膜要厚之TiN连续膜的工序。 | ||
地址 | 日本 |