发明名称 |
CuSn、CuZn及CuZnSn溅镀靶;CUSN, CUZN AND CUZ |
摘要 |
明主张包括CuZnSn材料、CuZn材料或CuSn材料之三维溅镀靶。实例具有CuZnSn材料,其Cu含量介于40原子%至60原子%之间;Zn含量介于20原子%至30原子%之间;且Sn含量介于20原子%至30原子%之间,其中该三维溅镀靶具有至少一个大于500mm之主轴尺寸且该CuZnSn材料具有介于0.005mm至5mm之间之晶粒大小。另外,本发明主张产生该三维溅镀靶之方法。
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申请公布号 |
TW201600620 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW104115094 |
申请日期 |
2015.05.12 |
申请人 |
贺利氏德国有限责任两合公司 |
发明人 |
赛门 克里司多福;裘提司 马可斯 |
分类号 |
C23C14/14(2006.01);C23C14/34(2006.01);B22D15/00(2006.01);B22F3/02(2006.01);B05D1/06(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/14(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种三维溅镀靶,其包括:CuZnSn材料,其具有介于40原子%至60原子%之间之Cu含量;介于20原子%至30原子%之间之Zn含量;及介于20原子%至30原子%之间之Sn含量,其中该三维溅镀靶具有至少一个大于500mm之主轴尺寸且该CuZnSn材料具有介于0.005mm至5mm之间之晶粒大小。
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地址 |
德国 |