发明名称 CuSn、CuZn及CuZnSn溅镀靶;CUSN, CUZN AND CUZ
摘要 明主张包括CuZnSn材料、CuZn材料或CuSn材料之三维溅镀靶。实例具有CuZnSn材料,其Cu含量介于40原子%至60原子%之间;Zn含量介于20原子%至30原子%之间;且Sn含量介于20原子%至30原子%之间,其中该三维溅镀靶具有至少一个大于500mm之主轴尺寸且该CuZnSn材料具有介于0.005mm至5mm之间之晶粒大小。另外,本发明主张产生该三维溅镀靶之方法。
申请公布号 TW201600620 申请公布日期 2016.01.01
申请号 TW104115094 申请日期 2015.05.12
申请人 贺利氏德国有限责任两合公司 发明人 赛门 克里司多福;裘提司 马可斯
分类号 C23C14/14(2006.01);C23C14/34(2006.01);B22D15/00(2006.01);B22F3/02(2006.01);B05D1/06(2006.01) 主分类号 C23C14/14(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种三维溅镀靶,其包括:CuZnSn材料,其具有介于40原子%至60原子%之间之Cu含量;介于20原子%至30原子%之间之Zn含量;及介于20原子%至30原子%之间之Sn含量,其中该三维溅镀靶具有至少一个大于500mm之主轴尺寸且该CuZnSn材料具有介于0.005mm至5mm之间之晶粒大小。
地址 德国