光可破坏淬灭剂与相关光阻组成物及形成装置之方法

摘要

光可破坏淬灭剂，具有结构式

其中X、n、及R1至R6系如本文定义，及R2、R3、R4、R5、及R6中之至少一者为卤素、硝基、C1-12氟化烷基、氰基、醛、C2-20酯、C2-20酮、C1-20硫氧基烃基、C1-20磺醯基烃基、或磺醯胺。该光可破坏淬灭剂相较于三苯基鋶酚酸盐，具有改良的溶液安定性及减低的吸湿性。一种包括酸敏性聚合物、光酸产生剂、及该光可破坏淬灭剂之光阻组成物，相较于相对应的光阻组成物比较该光可破坏淬灭剂，具有增高的对比及/或临界尺寸一致性。

主权项

一种光可破坏淬灭剂，具有结构：

其中X为碘或硫；当X为碘时，n为2，及当X为硫时，n为3；R1之各次出现独立地为未经取代或经取代之C1-40烃基，或R1之两次出现视需要地彼此键结而形成环；及R2、R3、R4、R5、及R6之各次出现独立地为氢、未经取代或经取代之C1-18烃基、卤素、硝基、C1-12氟化烷基、氰基、醛(-C(O)H)、C2-20酯(-C(O)OR7，其中R7为C1-19烃基)、C2-20酮(-C(O)R7，其中R7为C1-19烃基)、C1-20磺醯基烃基(-S(O)2R8，其中R8为C1-20烃基)、或磺醯胺(-S(O)2NR92，其中R9之各次出现独立地为氢或C1-20烃基)；但限制条件为R2、R3、R4、R5、及R6中之至少一者为卤素、硝基、C1-12氟化烷基、氰基、醛(-C(O)H)、C2-20酯(-C(O)OR7，其中R7为C1-19烃基)、C2-20酮(-C(O)R7，其中R7为C1-19烃基)、C1-20硫氧基烃基(-S(O)R8，其中R8为C1-20烃基)、C1-20磺醯基烃基(-S(O)2R9，其中R9为
C1-20烃基)、或磺醯胺(-S(O)2NR102，其中R10之各次出现独立地为氢或C1-20烃基)；及/或R2、R3、R4、R5、及R6之任一对或任多对相邻之出现系彼此键结而形成未经取代或经取代之环。