| 发明名称 |
抗反射膜、抗反射膜之制造方法、偏光板及影像显示装置 |
| 摘要 |
明系关于一种抗反射膜，系于透光性基材上具有硬涂层与低折射率层者，其特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸系树脂、中空状二氧化矽微粒子、反应性二氧化矽微粒子及两种防污剂，且上述中空状二氧化矽微粒子系平均粒径为40～80 nm，相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂之掺合比(中空状二氧化矽微粒子之含量/(甲基)丙烯酸系树脂之含量)为0.9～1.4，上述反应性二氧化矽之含量相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂100质量份，为5～60质量份，且上述防污剂含有由氟系化合物构成之防污剂与由氟-聚矽氧系化合物构成之防污剂。 |
| 申请公布号 |
TWI515271 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
| 申请号 |
TW101101664 |
申请日期 |
2012.01.16 |
| 申请人 |
大日本印刷股份有限公司 |
发明人 |
林真理子;堀尾智之;西村佳泰;猪保裕哉;中村启志;用木麻友 |
| 分类号 |
C09D133/08(2006.01);C09D7/12(2006.01);C08K3/36(2006.01);G02B1/11(2015.01);G02B5/30(2006.01) |
主分类号 |
C09D133/08(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种抗反射膜，系于透光性基材上具有硬涂层与低折射率层，其特征在于：该低折射率层含有(甲基)丙烯酸树脂、中空状二氧化矽微粒子、反应性二氧化矽微粒子及两种防污剂，其中，该中空状二氧化矽微粒子之平均粒径为40~80nm，相对于该(甲基)丙烯酸树脂之掺合比(中空状二氧化矽微粒子之含量(质量份)/(甲基)丙烯酸树脂之含量(质量份))为0.9~1.4，该反应性二氧化矽之含量相对于该(甲基)丙烯酸树脂100质量份，为5~60质量份，该防污剂含有由氟系化合物构成之防污剂与由氟-聚矽氧系化合物构成之防污剂。
|
| 地址 |
日本 |
