| 摘要 |
Dispositif de dépôt chimique en phase vapeur d'un ou plusieurs métaux sur au moins une pièce (P) comportant une surface intérieure, le dispositif comportant une zone de dépôt (6), un évaporateur/injecteur (2) connecté à la zone de dépôt (6) afin de l'alimenter en un mélange gazeux contenant une ou des précurseurs desdits métaux à déposer, et un circuit de pompage et de récupération (C) connecté à la zone de dépôt (6) de sorte à récupérer au moins en partie le mélange gazeux après dépôt, ladite zone de dépôt (6) recevant la pièce (P) sur laquelle le dépôt chimique est effectué, la zone de dépôt (6) comportant des moyens de chauffage de la pièce et des moyens pour introduire le mélange gazeux a directement dans la pièce (P) de sorte que seule la surface intérieure de la pièce (P) soit en contact avec le mélange gazeux. |
