量测微结构不对称性的方法及装置、位置量测方法、位置量测装置、微影装置及半导体元件制造方法

摘要

微影装置，其包括一对准感测器，该对准感测器包括用于读取包含一周期性结构之一标记之位置的一自参考干涉计。一照明光学系统将不同色彩及偏振之辐射聚焦成扫描该结构之一光点(406)。在一侦测光学系统中侦测(430A、430B)多个位置相依信号IA(G,R,N,F)、IB(G,R,N,F)，且对其进行处理(PU)以获得多个候选位置量测。每一标记包含一大小小于该光学系统之一解析度的子结构。每一标记系在该等子结构与较大结构之间存在一位置位移的情况下形成，该位置位移为已知(d1、d2)分量及未知(△d)分量两者之一组合。使用来自一对标记(702-1、702-2)之信号连同关于该等已知位移之间的差之资讯来计算至少一标记之一测定位置，以便校正该位置位移之该未知分量。

主权项

一种使用一光学系统来量测一基板上之标记之位置的方法，每一标记包含在至少一第一方向上周期性地配置之结构，该等结构中至少一些包含较小子结构，每一标记系在该等结构与该等子结构之间存在一位置位移的情况下形成，该位置位移为已知分量(component)及未知分量两者之一组合，该方法包含：(a)运用辐射来照明每一标记，且使用一或多个侦测器来侦测由该结构绕射之辐射以获得含有关于该标记之该位置之资讯的信号；(b)处理该等信号以计算至少一标记之一测定位置，该计算使用来自复数个标记之信号连同关于该等标记之该等已知位移之间的差之资讯，以便校正该位置位移之该未知分量。