发光二极体光源装置、膜厚测定装置以及薄膜形成装置

摘要

明是提供发光二极体光源装置30，其可在用于膜厚测定时加大光量变化量。发光二极体光源装置30是具有：复数个发光二极体发光源(34~36)；复数个准直工具(342、352、362)，配置于各发光源的下游侧，使来自各发光源的入射光平行化后射出；复数个第一滤光工具(37、38)，配置于各准直工具的下游侧，仅使入射光中的特定波长域以上的光透过及/或反射、或是仅使特定波长域以下的光透过及/或反射而射出；以及一集光工具(39)，配置于下游侧的第一滤光工具(38)的更下游侧，将来自各第一滤光工具的入射光集光而射出。还有，在各准直工具(342、352、362)的下游侧、且在各第一滤光工具(37、38)的上游侧，配置有第二滤光工具(344、354、364)，仅使来自各准直工具的入射光中的特定范围的波长透过而射出。

主权项

一种发光二极体光源装置，用于光学式的膜厚测定装置的投光器，上述光学式的膜厚测定装置具有：上述投光器，对于成膜中的基板，将出射光照射于上述基板的薄膜形成面；以及识别工具，根据基于从该投光器照射的出射光之来自上述基板的透过光或反射光的受光资讯，而识别当时形成于上述基板的薄膜的厚度；上述发光二极体光源装置具有：复数个发光二极体发光源，各自以驱动电流为数百mA以上且具有在带宽为20nm以内的范围出现输出功率的峰值的输出波长特性之功率发光二极体构成；复数个准直工具，配置于各发光源的下游侧，使来自各发光源的入射光平行化后射出；复数个第一滤光工具，配置于各准直工具的下游侧，仅使入射光中的特定波长域以上的光透过及/或反射、或是仅使特定波长域以下的光透过及/或反射而射出；以及一集光工具，配置于下游侧的第一滤光工具的更下游侧，将来自各第一滤光工具的入射光集光而射出；其特征在于：在各准直工具的下游侧、且在各第一滤光工具的上游侧，配置有第二滤光工具，上述第二滤光工具仅使来自各准直工具的入射光中的特定范围的波长透过而射出，该第二滤光工具是被构成为向各第一滤光工具的出射光所具有
的光输出的频谱分布为20nm以下的半高宽(full width at half maximum；FWHM)，而将半高宽为20nm以下的窄波长带的照射光作为来自上述投光器的出射光而从集光工具射出。