ＦｅＰｔ系溅镀靶及其制造方法

摘要

明为提供一种FePt系溅镀靶，其系不使用复数的靶，而能以单独来形成可作为磁性记录媒体使用的包含FePt系合金之薄膜，以及提供本发明之FePt系溅镀靶之制造方法。

主权项

一种FePt系溅镀靶，其系含有Fe、Pt、C及金属氧化物之FePt系溅镀靶，其特征为具有如下述般之构造：含有Pt 40at%以上且60at%以下，残部为由Fe及不可避免的杂质所构成的FePt系合金相、与包含不可避免的杂质之C相、与包含不可避免的杂质之金属氧化物相为相互分散之构造；其中，相对于靶整体之C之含有量为多于0vol%且20vol%以下，相对于靶整体之前述金属氧化物之含有量为10vol%以上且未达40vol%，尚且，相对于靶整体之C与金属氧化物之合计含有量为20vol%以上且40vol%以下。