发明名称 硏磨垫
摘要 明提供一种具备吸附层之研磨垫,其可形成更高精度的研磨面,且可对应大面积化之研磨面。
申请公布号 TWI515083 申请公布日期 2016.01.01
申请号 TW102134473 申请日期 2013.09.25
申请人 丸石产业股份有限公司 发明人 矢岛利康;二宫大辅
分类号 B24B37/24(2012.01) 主分类号 B24B37/24(2012.01)
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项 一种研磨垫,其系藉由将含有基材和吸附层之吸附材、与研磨层接合而成者,其中,前述吸附层系包括藉由使选自下列者的至少1种聚矽氧交联而成的组成物:包含仅在两末端具有乙烯基之直链状聚有机矽氧烷之聚矽氧、包含在两末端及侧链具有乙烯基之直链状聚有机矽氧烷之聚矽氧、包含仅在末端具有乙烯基之分支状聚有机矽氧烷之聚矽氧、以及包含在末端及侧链具有乙烯基之分支状聚有机矽氧烷之聚矽氧,前述吸附层之表面粗糙度之平均值Sa系0.02至0.06μm。
地址 日本