发明名称 |
流体流动结构 |
摘要 |
例中,一流体流动结构包含一流体配布微装置埋在一成型物中,其中具有一沟槽经由它流体可直接流至该装置。该装置含有多个流体喷发器,及多个流体腔室各接近一个喷发器。各腔室具有一入口,经由它来自该沟槽的流体可进入该腔室,及一出口经由它流体可被由该腔室喷出。该沟槽之一周缘会包围该等入口,但尺寸并不被该装置的尺寸所限制。
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申请公布号 |
TW201600345 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW104107420 |
申请日期 |
2015.03.09 |
申请人 |
惠普发展公司有限责任合夥企业 |
发明人 |
陈 清华;库米比 麦可W;哈马史黛德 黛安娜R |
分类号 |
B41J2/175(2006.01);B41J2/14(2006.01) |
主分类号 |
B41J2/175(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
一种流体流动结构,包含一流体配布微装置埋在一成型物中,该成型物中具有一沟槽,流体可经由该沟槽直接流至该装置,该装置含有多个流体喷发器及多个流体腔室各接近一喷发器,且各腔室具有一入口,来自该沟槽的流体可经由该入口进入该腔室,及一出口流体可穿过它被由该腔室喷出,该沟槽之一周缘包围着该等入口,但尺寸并不被该装置的尺寸所限制。
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地址 |
美国 |