发明名称 |
低水金属离子牙膏 |
摘要 |
明系关于具有低水相之洁牙组成物,其包含有效数量之聚磷酸盐及离子活性组成份。
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申请公布号 |
TWI515014 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW101119659 |
申请日期 |
2012.06.01 |
申请人 |
美国棕榄公司 |
发明人 |
费雪 史帝芬;札迪尔 林恩特;普林塞浦 麦克 |
分类号 |
A61K8/24(2006.01);A61K8/30(2006.01);A61K8/55(2006.01);A61Q11/00(2006.01) |
主分类号 |
A61K8/24(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
黄庆源;陈彦希 |
主权项 |
一种低水洁牙组成物,其包含于单相中之:金属离子来源;至少一种聚磷酸盐,其系选自于包括具有4个或更多磷原子之无机聚磷酸盐的群组;及单一之增稠剂,其系交联聚乙烯基吡咯烷酮,其中该洁牙剂组成物具有以该组成物之重量计低于约10%之总水分含量,且该金属离子来源为亚锡、锌或铜之离子,且其中该洁牙剂组成物为糊膏或凝胶。
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地址 |
美国 |