| 摘要 |
<p>본 발명은 인공 광원을 이용한 하폐수 고도처리 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인 용출 공정, 탈질공정, 질산화공정, 침전공정, 배출공정을 포함하는 하폐수 고도처리 시스템에서 인공 빛을 질산화공정 중에 조사하여, 암모니아가 질산화 반응에 의해서 질산화질소(NO3-N)으로 전화되는 것을 억제하는 부분질산화를 유도하여, 질소 제거율의 향상시키고, 송풍비용, 탈질에 필요한 탄소원, 알칼리 소비량을 절감할 수 있는 하폐수 고도처리 시스템에 관한 것이다.</p> |
