Chemisch-mechanische Polierschichtformulierung mit Konditionierungstoleranz

摘要

Es wird ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, das eine Polyurethan-Polierschicht enthält, die eine Zusammensetzung und eine Polieroberfläche aufweist, wobei die Zusammensetzung der Polyurethan-Polierschicht eine Säurezahl von ≥ 0,5 mg (KOH)/g aufweist, wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist und wobei die Polieroberfläche eine Konditionierungstoleranz von ≥ 80% aufweist.