发明名称 Chemical Vapor Deposition System for High Speed Deposition and Method Thereof
摘要 <p>본 발명은 초기기동이 가능한 예열온도를 유지할 수 있도록 제어하여 연속적인 증착작업을 도모함은 물론 작업소요시간을 효율적으로 줄임을 제공하도록, 피착제 표면에 화학증착원료를 중합하여 방수나 절연 또는 변색방지를 위한 코팅 피막을 형성하도록 기화로 및 분해로, 진공증착챔버, 칠러트랩, 진공펌프를 포함하여 구성되는 상온 화학증착장치에 있어서, 상기 기화로 및 상기 분해로에 각각 설치되고 내부에 수용된 화학증착원료를 가열가능하게 승온시키는 제1가열기 및 제2가열기와; 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기에 따른 상기 기화로 및 상기 분해로의 온도를 각각 구분하여 측정가능하도록 구비되고 상기 기화로 및 상기 분해로에 각각 설치되는 온도측정부와; 상기 진공증착챔버에 설치되고 상기 진공펌프로부터 생성되는 진공값을 측정가능하게 형성되는 진공측정부와; 상기 온도측정부와 상기 진공측정부에서 측정된 온도 및 진공값을 표시하는 디스플레이창과, 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기의 작동은 물론 상기 진공펌프에 예비전원 및 주전원을 인가하는 복수 개의 전원버튼으로 구성되는 컨트롤박스와; 상기 컨트롤박스 내에 장착되고 상기 온도측정부와 상기 진공측정부로부터 입력되는 신호에 따라 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기와 상기 진공펌프에 제어신호를 인가하는 제어부;를 포함하고, 상기 제어부는 상기 컨트롤박스로부터 예비전원이 인가되면 상기 제1가열기 및 상기 제2가열기를 각각 설정온도까지 예비가열하되 예열상태를 유지가능하게 제어하는 고속 증착이 가능한 상온 화학증착장치를 제공한다.</p>
申请公布号 KR101582081(B1) 申请公布日期 2015.12.31
申请号 KR20130137567 申请日期 2013.11.13
申请人 (주)우리정도 发明人 장태순;박민규;류정한
分类号 C23C16/44;C23C16/52 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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