| 摘要 |
<p>본 발명은, 처리실의 덮개를 안정적으로 유지하고, 반전시키는 것이 가능한 덮개 유지 지그를 제공한다. 처리실(81)의 상부에 설치된 덮개(83)를, 상기 처리실(81)로부터 제거된 상태로 유지하는 덮개 유지 지그(1)로서, 반전 프레임(2)은 덮개(83)의 둘레 가장자리부를 유지하고, 기체(31, 34, 53)는, 상기 반전 프레임(2)에 유지된 덮개(83)를 반전시키기 위해 상기 반전 프레임(2)을 수평한 회전축(52) 둘레에서 회전 가능하게 지지한다. 고정 기구(4)는, 상기 반전 프레임(2)에 대하여 덮개(83)를 고정하는 고정 위치와, 상기 덮개(83)의 고정이 해제되는 해제 위치의 사이에서 록샤프트(44)를 이동시킨다.</p> |
